PROPERTIES OF SPUTTERED TUNGSTEN SILICIDE FILMS DEPOSITED WITH DIFFERENT ARGON PRESSURES

被引：4

作者：

HARA, T

TAKAHASHI, S

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0168-583X(89)90792-1

中图分类号：

TH7 [仪器、仪表];

学科分类号：

0804 ; 080401 ; 081102 ;

摘要：

引用

页码：302 / 305

页数：4

共 6 条

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HARA, T ;

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