INTERDIFFUSION OF THIN METAL-FILMS

被引：0

作者：

BAGLIN, JEE ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP, THOMAS J WATSON RES CTR, YORKTOWN HTS, NY 10598 USA

来源：

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：C77 / C77

页数：1