CHARGE TRANSPORT AND STORAGE IN ION-IMPLANTED METAL-OXIDE SEMICONDUCTOR STRUCTURES

被引:0
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作者
AUGULIS, L
PRANEVICIUS, L
VOSYLIUS, J
机构
来源
APPLICATIONS OF SURFACE SCIENCE | 1982年 / 10卷 / 03期
关键词
D O I
10.1016/0378-5963(82)90166-0
中图分类号
学科分类号
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页码:349 / 356
页数:8
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