COMPUTER-CONTROLLED ELECTRON-BEAM MICROFABRICATION MACHINE WITH A NEW REGISTRATION SYSTEM

被引：11

作者：

SAITOU, N ^{[1
]}

MUNAKATA, C ^{[1
]}

MIURA, Y ^{[1
]}

HONDA, Y ^{[1
]}

机构：

[1] HITACHI LTD,CENT RES LAB,KOKUBUNJI 185,TOKYO,JAPAN

来源：

JOURNAL OF PHYSICS E-SCIENTIFIC INSTRUMENTS | 1974年 / 7卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1088/0022-3735/7/6/014

中图分类号：

TH7 [仪器、仪表];

学科分类号：

0804 ; 080401 ; 081102 ;

摘要：

引用

页码：441 / 444

页数：4

共 9 条

[1]

BREWER GR, 1971, IEEE SPECTRUM, V8, P23, DOI 10.1109/MSPEC.1971.5217844

[2]

CHANG THP, 1971, 11TH S EL ION LAS BE, P471

[3] HIGH-RESOLUTION POSITIVE RESISTS FOR ELECTRON-BEAM EXPOSURE [J].

HALLER, I ;

HATZAKIS, M ;

SRINIVASAN, R .

[4]

HATZAKIS M, 1971, 11TH S EL ION LAS BE, P337

[5]

MAEKAWA A, 1970, 4 INT C EL ION BEAM, P503

[6] ELECTRON BEAM FABRICATION OF MICRON TRANSISTORS [J].

MAGDO, S ;

HATZAKIS, M ;

TING, CH .

[7]

MIYAUCHI S, 1970, IEEE T ELECTRON DEVI, VED17, P450

[8]

OZDMIR FS, 1971, 11 REC S EL ION LAS, P463

[9]

SAITOU N, 1972, 5 P INT C EL ION BEA, P68