SPUTTERED TISI2 FILM PROPERTIES AS A FUNCTION OF DEPOSITION TEMPERATURE

被引：0

作者：

TANIELIAN, M ^{[1
]}

BLACKSTONE, S ^{[1
]}

LAJOS, R ^{[1
]}

机构：

[1] GOULD INC,RES CTR,ROLLING MEADOWS,IL 60008

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1984年 / 131卷 / 03期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：C87 / C87

页数：1

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