HETEROEPITAXIAL GROWTH OF GROUP-IIA-FLUORIDE FILMS ON SI SUBSTRATES

被引：86
作者：
ASANO, T
ISHIWARA, H
KAIFU, N
机构：
来源：
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS | 1983年 / 22卷 / 10期
关键词：
D O I：
10.1143/JJAP.22.1474
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
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页码：1474 / 1481
页数：8
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共 12 条
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