EFFECT OF DEPOSITION CONDITIONS ON THE TEXTURE AND SUBSTRUCTURE OF CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITED POLYCRYSTALLINE SILICON FILMS

被引：0
作者：
GORELIK, SS
SAGALOVA, TB
SAFONOV, YS
SULTANOV, MA
机构：
来源：
INORGANIC MATERIALS | 1994年 / 30卷 / 03期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
T [工业技术];
学科分类号：
08 ;
摘要：
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页码：298 / 301
页数：4
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