GROWTH-RATE ANISOTROPY AND MORPHOLOGY OF AUTOEPITAXIAL SILICON FILMS FROM SICL4

被引:29
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作者
VANDENBR.CH [1 ]
机构
[1] PHILIPS RES LABS, EINDHOVEN, NETHERLANDS
关键词
D O I
10.1016/0022-0248(74)90067-0
中图分类号
O7 [晶体学];
学科分类号
0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;
摘要
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页数:8
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