METAL AND METALLIC COMPOUND DEPOSITION APPARATUS USING AN ELECTRON-CYCLOTRON RESONANCE PLASMA

被引：0

作者：

ONO, T ^{[1
]}

TAKAHASHI, C ^{[1
]}

MATSUO, S ^{[1
]}

机构：

[1] NIPPON TELEGRAPH & TEL PUBL CORP,ATSUGI ELECT COMMUN LAB,ATSUGI,KANAGAWA 24301,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：C85 / C85

页数：1