THE DIFFUSION OF PHOSPHORUS IN SILICON FROM HIGH SURFACE CONCENTRATIONS

被引：13

作者：

SCHAAKE, HF

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.333163

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1208 / 1211

页数：4

共 16 条

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SCHAAKE HF, UNPUB