COMPUTER-SIMULATION OF LINE EDGE PROFILES UNDERGOING ION-BOMBARDMENT

被引：16
作者：
RANGELOW, IW
机构：
来源：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1983年 / 1卷 / 02期
关键词：
D O I：
10.1116/1.571932
中图分类号：
TB3 [工程材料学];
学科分类号：
0805 ; 080502 ;
摘要：
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页码：410 / 414
页数：5
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