未找到相关数据
THE DOPING OF SILICON WITH BORON BY RAPID THERMAL-PROCESSING
被引：3
作者：
DESOUZA, JP
HASENACK, CM
SWART, JE
机构：
关键词：
D O I：
10.1088/0268-1242/3/4/001
中图分类号：
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号：
0808 ;
0809 ;
摘要：
引用
收藏
页码：277 / 280
页数：4
相关论文