THERMAL-OXIDATION OF THE SILICIDES COSI2, CRSI2, NISI2, PTSI, TISI2 AND ZRSI2

被引：65
作者：
STRYDOM, WJ
LOMBAARD, JC
PRETORIUS, R
机构：
[1] UNIV STELLENBOSCH,DEPT PHYS,DIV SOLID STATE,STELLENBOSCH 7600,SOUTH AFRICA
[2] CSIR,CTR NATL ACCELERATOR,VAN DE GRAAFF GRP,DIV ION SOLID INTERACT,FAURE 7131,SOUTH AFRICA
来源：
THIN SOLID FILMS | 1985年 / 131卷 / 3-4期
关键词：
D O I：
10.1016/0040-6090(85)90142-7
中图分类号：
T [工业技术];
学科分类号：
08 ;
摘要：
ELECTRON DEVICE MANUFACTURE
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页码：215 / 231
页数：17
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