ANODIC OXIDATION OF YTTRIUM THIN FILMS

被引：20

作者：

RAIRDEN, JR

机构：

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1967年 / 114卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2426511

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：75 / &

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共 1 条

[1] CRITICAL TEMPERATURE OF NIOBIUM + TENTALUM FILMS [J].

RAIRDEN, JR ;

NEUGEBAUER, CA .

PROCEEDINGS OF THE IEEE, 1964, 52 (10) :1234-+