MODELING PROJECTION PRINTING OF POSITIVE PHOTORESISTS

被引：231

作者：

DILL, FH

NEUREUTHER, AR

TUTTLE, JA

WALKER, EJ

机构：

[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HEIGHTS,NY 10598

[2] UNIV CALIF,DEPT ELECT ENGN & COMP SCI,BERKELEY,CA 94720

[3] IBM CORP,ROUTE 52,HOPEWELL JUNCTION,NY 12533

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/T-ED.1975.18161

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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