PLASMA ANODIZED ALUMINUM OXIDE FILMS

被引：43

作者：

TIBOL, GJ

HULL, RW

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2426006

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：1368 / 1372

页数：5

共 6 条

[1] MECHANISM OF ANODIC OXIDATION [J].

AMSEL, G ;

SAMUEL, D .

[2] THE GROWTH OF BARRIER OXIDE FILMS ON ALUMINUM [J].

BERNARD, WJ ;

COOK, JW .

DOHERTY, PE ;

DAVIS, RS .

MILES, JL ;

SMITH, PH .

[5]

PLISKIN MA, 1964, IBM J RES, V8, P43

[6]

TIBOL GJ, 1964, P IEEE, V52