PRESSURE-DEPENDENCE OF ATOMIC FLUORINE LASER TRANSITION INTENSITIES

被引:17
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作者
HOCKER, LO [1 ]
PHI, TB [1 ]
机构
[1] MIT, DEPT MECH ENGN, CAMBRIDGE, MA 02139 USA
关键词
D O I
10.1063/1.89134
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页数:2
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