PRESSURE-DEPENDENCE OF ATOMIC FLUORINE LASER TRANSITION INTENSITIES

被引：17

作者：

HOCKER, LO ^{[1
]}

PHI, TB ^{[1
]}

机构：

[1] MIT, DEPT MECH ENGN, CAMBRIDGE, MA 02139 USA

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.89134

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：493 / 494

页数：2

共 5 条

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