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TRIMETHYLAMINE COMPLEXES OF ALANE AS PRECURSORS FOR THE LOW-PRESSURE CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION (LPCVD) OF ALUMINUM
被引：0
作者：
GLADFELTER, WL
BOYD, DC
JENSEN, KF
机构：
[1] UNIV MINNESOTA,DEPT CHEM,MINNEAPOLIS,MN 55455
[2] UNIV MINNESOTA,DEPT CHEM ENGN & MAT SCI,MINNEAPOLIS,MN 55455
来源：
ABSTRACTS OF PAPERS OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY
|
1989年
/
198卷
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
O6 [化学];
学科分类号：
0703 ;
摘要：
引用
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页码：318 / INOR
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