RAPID ISOTHERMAL ANNEALING OF ION-IMPLANTED POLYSILICON FILMS

被引：0

作者：

GREGORY, RB

WILSON, SR

PAULSON, WM

KRAUSE, S

HAMDI, AH

GRESSETT, JD

MCDANIEL, FD

机构：

[1] MOTOROLA INC,SEMICOND RES & DEV LABS,PHOENIX,AZ 85008

[2] ARIZONA STATE UNIV,DEPT ELECT ENGN,TEMPE,AZ 85281

[3] N TEXAS STATE UNIV,DEPT PHYS,DENTON,TX 76203

来源：

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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