LOW-TEMPERATURE DOUBLE-PLASMA PROCESS FOR BN FILMS ON SEMICONDUCTORS

被引：10

作者：

SCHMOLLA, W

HARTNAGEL, HL

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2123636

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：2636 / 2637

页数：2

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共 4 条

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