SIO2 DAMAGE DURING ELECTRON-BEAM ANNEALING

被引：0

作者：

POLLARD, CF ^{[1
]}

GLACCUM, AE ^{[1
]}

SPEIGHT, JD ^{[1
]}

机构：

[1] BRITISH TELECOMMUN RES LABS,MARTLESHAM HLTH,IPSWICH,SUFFOLK,ENGLAND

来源：

RADIATION PHYSICS AND CHEMISTRY | 1983年 / 22卷 / 06期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];

学科分类号：

070304 ; 081704 ;

摘要：

引用

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