THE SIMULATION OF RADIATION-DAMAGE IN OXIDE-FILMS BY ION-IMPLANTATION

被引：12

作者：

ELFENTHAL, L ^{[1
]}

SCHULTZE, JW ^{[1
]}

MEYER, O ^{[1
]}

机构：

[1] INST NUKL FESTKORPERPHYS,KERNFORSCHUNGSZENTRUM,D-7500 KARLSRUHE,FED REP GER

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0010-938X(89)90040-1

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：343 / 361

页数：19

共 35 条

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