HIGH ASPECT RATIO PHOTOELECTROCHEMICAL ETCHING OF COMPOUND SEMICONDUCTORS

被引：0

作者：

CARRABBA, MM ^{[1
]}

RAUH, RD ^{[1
]}

机构：

[1] EIC LABS INC,NORWOOD,MA 02062

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1986年 / 133卷 / 04期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：C175 / C175

页数：1

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