APPLICATION OF A FOCUSED ION-BEAM SYSTEM TO DEFECT REPAIR OF VLSI MASKS

被引：44
作者：
HEARD, PJ
CLEAVER, JRA
AHMED, H
机构：
来源：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1985年 / 3卷 / 01期
关键词：
D O I：
10.1116/1.583297
中图分类号：
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号：
0808 ; 0809 ;
摘要：
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页码：87 / 90
页数：4
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共 7 条
[1]  
[Anonymous], 1963, KGL DANSKE VIDENSKAB
[2]   A 100-KV ION PROBE MICROFABRICATION SYSTEM WITH A TETRODE GUN [J].
CLEAVER, JRA ;
AHMED, H .
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1981, 19 (04) :1145-1148
[3]  
CLEAVER JRA, 1983, SPIE J, V393, P129
[4]  
CLEAVER JRA, 1983, MICROCIRCUIT ENG 83, P135
[5]   LIQUID-METAL SOURCE OF GOLD IONS [J].
PREWETT, PD ;
JEFFERIES, DK ;
COCKHILL, TD .
REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 1981, 52 (04) :562-566
[6]   HIGH-RESOLUTION, ION-BEAM PROCESSES FOR MICROSTRUCTURE FABRICATION [J].
SELIGER, RL ;
KUBENA, RL ;
OLNEY, RD ;
WARD, JW ;
WANG, V .
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1979, 16 (06) :1610-1612
[7]  
WAGNER A, 1983, SPIE J, V393, P167
1