EXCIMER LASER PROJECTION LITHOGRAPHY

被引：23

作者：

JAIN, K ^{[1
]}

KERTH, RT ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,SAN JOSE RES LAB,SAN JOSE,CA 95193

来源：

APPLIED OPTICS | 1984年 / 23卷 / 05期

关键词：

D O I：

10.1364/AO.23.000648

中图分类号：

O43 [光学];

学科分类号：

070207 ; 0803 ;

摘要：

引用

页码：648 / 650

页数：3

共 8 条

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