CATALYTIC CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION (CTL-CVD) METHOD PRODUCING HIGH-QUALITY HYDROGENATED AMORPHOUS-SILICON

被引：131

作者：

MATSUMURA, H

机构：

[1] Hiroshima Univ, Hiroshima, Jpn, Hiroshima Univ, Hiroshima, Jpn

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS | 1986年 / 25卷 / 12期

关键词：

DEPOSITION GAS - HEATER-CATALYZER - PHOTOSENSITIVITY;

D O I：

10.1143/JJAP.25.L949

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：L949 / L951

页数：3