SURFACE TEXTURING BY SPUTTER ETCHING

被引：50

作者：

BERG, RS ^{[1
]}

KOMINIAK, GJ ^{[1
]}

机构：

[1] SANDIA LABS,ALBUQUERQUE,NM 87115

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1976年 / 13卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.568930

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：403 / 405

页数：3

共 19 条

[1]

ARNDT RA, 1975, 11TH PHOT SPEC C PHO

BARBER, DJ ;

FRANK, FC ;

MOSS, M ;

STEEDS, JW ;

TSONG, IST .

[3]

Carter G., 1968, ION BOMBARDMENT SOLI

[4]

CUOMO JJ, 1975, APPL PHYS LETT, V26, P557, DOI 10.1063/1.87990

[5] ION-BEAM ETCHING [J].

GLOERSEN, PG .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1975, 12 (01) :28-35

[6]

Hermanne N., 1970, Radiation Effects, V5, P203, DOI 10.1080/00337577008235022

[7]

Kaminsky M., 1965, ATOMIC IONIC IMPACT, DOI 10.1007/978-3-642-46025-8

[8]

KOMINIAK GJ, 1975, SAND750455 SAND LAB

[9]

LAZNOVSKY W, 1975, RES DEV, V26, P47

[10]

MATTOX DM, 1975, SAND750361 SAND LAB