INSTABILITY IN RADIATIVELY MELTED SILICON FILMS

被引：42

作者：

JACKSON, KA ^{[1
]}

KURTZE, DA ^{[1
]}

机构：

[1] CLARKSON COLL TECHNOL,DEPT PHYS,POTSDAM,NY 13676

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0022-0248(85)90095-8

中图分类号：

O7 [晶体学];

学科分类号：

0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;

摘要：

引用

页码：385 / 390

页数：6

共 7 条

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