REDISTRIBUTION OF DOPANTS IN TISI2-POLYCRYSTALLINE BILAYERS DURING HEAT-TREATMENT

被引：22

作者：

NORSTROM, H ^{[1
]}

RUNOVC, F ^{[1
]}

BUCHTA, R ^{[1
]}

WIKLUND, P ^{[1
]}

OSTLING, M ^{[1
]}

PETERSSON, CS ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV UPPSALA,INST TECHNOL,S-75121 UPPSALA,SWEDEN

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1983年 / 1卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1116/1.571948

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：463 / 464

页数：2

共 5 条

JAHNEL, F ;

BIERSACK, J ;

CROWDER, BL ;

DHEURLE, FM ;

FINK, D ;

ISAAC, RD ;

LUCCHESE, CJ ;

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PHYSICA SCRIPTA, 1982, 26 (02) :108-112