GROWTH OF HIGH-QUALITY EPITAXIAL CDXHG1-XTE FILMS BY SPUTTER DEPOSITION

被引：10

作者：

ROUSSILLE, R

GUILLOT, S

LEFEUVRE, G

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0022-0248(82)90313-X

中图分类号：

O7 [晶体学];

学科分类号：

0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;

摘要：

引用

页码：130 / 134

页数：5

共 9 条

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[No title captured]