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HIGH-TEMPERATURE FLAW BEHAVIOR IN HOT ISOSTATICALLY PRESSED SILICON-NITRIDE
被引：0
作者：
FOLEY, MR
TRESSLER, RE
WITTMER, DE
机构：
[1] PENN STATE UNIV,UNIVERSITY PK,PA 16802
[2] GTE PROD CORP,TOWANDA,PA
来源：
AMERICAN CERAMIC SOCIETY BULLETIN
|
1985年
/
64卷
/
10期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
TQ174 [陶瓷工业];
TB3 [工程材料学];
学科分类号：
0805 ;
080502 ;
摘要：
引用
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