HIGH-TEMPERATURE X-RAY-DIFFRACTOMETRY OF CVD SI3N4

被引：0

作者：

LARTIGUE, JF

SIBIEUDE, F

机构：

来源：

REVUE INTERNATIONALE DES HAUTES TEMPERATURES ET DES REFRACTAIRES | 1985年 / 22卷 / 02期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

TQ174 [陶瓷工业]; TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：71 / 81

页数：11

共 19 条

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