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MORPHOLOGY OF SIC EPITAXIAL LAYERS GROWN BY TEMPERATURE-GRADIENT ZONE-MELTING .1. DEPENDENCE OF THE CRYSTALLIZATION BOUNDARY SMOOTHNESS ON THE EPITAXIAL LAYERS GROWTH-CONDITIONS
被引:1
|
作者
:
PEEV, NS
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
LENINGRAD ELECT TECH INST,DEPT DIELECT & SEMICOND,LENINGRAD 197022,USSR
LENINGRAD ELECT TECH INST,DEPT DIELECT & SEMICOND,LENINGRAD 197022,USSR
PEEV, NS
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TAIROV, YM
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机构:
LENINGRAD ELECT TECH INST,DEPT DIELECT & SEMICOND,LENINGRAD 197022,USSR
LENINGRAD ELECT TECH INST,DEPT DIELECT & SEMICOND,LENINGRAD 197022,USSR
TAIROV, YM
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SMIRNOVA, NA
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LENINGRAD ELECT TECH INST,DEPT DIELECT & SEMICOND,LENINGRAD 197022,USSR
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SMIRNOVA, NA
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1
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KALNIN, AA
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LENINGRAD ELECT TECH INST,DEPT DIELECT & SEMICOND,LENINGRAD 197022,USSR
LENINGRAD ELECT TECH INST,DEPT DIELECT & SEMICOND,LENINGRAD 197022,USSR
KALNIN, AA
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机构
:
[1]
LENINGRAD ELECT TECH INST,DEPT DIELECT & SEMICOND,LENINGRAD 197022,USSR
来源
:
CRYSTAL RESEARCH AND TECHNOLOGY
|
1987年
/ 22卷
/ 06期
关键词
:
D O I
:
10.1002/crat.2170220607
中图分类号
:
O7 [晶体学];
学科分类号
:
0702 ;
070205 ;
0703 ;
080501 ;
摘要
:
引用
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页码:783 / 787
页数:5
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