OXIDATION-KINETICS OF SILICON SURFACES IN THE SUBMONOLAYER REGIME

被引：0

作者：

GUPTA, P ^{[1
]}

MAK, CH ^{[1
]}

COON, PA ^{[1
]}

GEORGE, SM ^{[1
]}

机构：

[1] STANFORD UNIV,DEPT CHEM,STANFORD,CA 94305

来源：

ABSTRACTS OF PAPERS OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY | 1988年 / 196卷

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O6 [化学];

学科分类号：

0703 ;

摘要：

引用

页码：162 / COLL