REDUCTION OF NICKEL-OXIDE FILMS UNDER GALVANOSTATIC CONDITIONS

被引：0

作者：

TYSYACHNYI, VP

KSENZHEK, OS

机构：

[1] DNEPROPETROVSK MET INST,DNEPROPETROVSK,UKSSR

[2] FE DZERZHINSKII CHEM TECHNOL INST,DNEPROPETROVSK,UKSSR

来源：

SOVIET ELECTROCHEMISTRY | 1976年 / 12卷 / 07期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页数：3