HEAVILY BORON DOPED CRYSTALLINE SILICON FILMS BY PLASMA TECHNIQUE

被引：1

作者：

YOSHIDA, Y

ONUMA, Y

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS | 1983年 / 22卷 / 07期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.22.1222

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：1222 / 1222

页数：1

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