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ELECTRICAL-RESISTANCE OF PLANAR COPPER ELECTRODEPOSITS
被引:19
作者
:
MELROSE, JR
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV NEW S WALES,DEPT ANALYT CHEM,KENSINGTON,NSW 2033,AUSTRALIA
UNIV NEW S WALES,DEPT ANALYT CHEM,KENSINGTON,NSW 2033,AUSTRALIA
MELROSE, JR
[
1
]
HIBBERT, DB
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
UNIV NEW S WALES,DEPT ANALYT CHEM,KENSINGTON,NSW 2033,AUSTRALIA
UNIV NEW S WALES,DEPT ANALYT CHEM,KENSINGTON,NSW 2033,AUSTRALIA
HIBBERT, DB
[
1
]
机构
:
[1]
UNIV NEW S WALES,DEPT ANALYT CHEM,KENSINGTON,NSW 2033,AUSTRALIA
来源
:
PHYSICAL REVIEW A
|
1989年
/ 40卷
/ 03期
关键词
:
D O I
:
10.1103/PhysRevA.40.1727
中图分类号
:
O43 [光学];
学科分类号
:
070207 ;
0803 ;
摘要
:
引用
收藏
页码:1727 / 1730
页数:4
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共 11 条
[11]
SWADA Y, 1986, PHYS REV LETT, V56, P1260
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