VISCOUS-FLOW OF THERMAL SIO2

被引：267

作者：

EERNISSE, EP ^{[1
]}

机构：

[1] SANDIA LABS,ALBUQUERQUE,NM 87115

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.89372

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：290 / 293

页数：4

共 20 条

[1]

AITKEN JM, 1976, IEEE T NUCL SCI, V23, P1526, DOI 10.1109/TNS.1976.4328533

[2]

AITKEN JM, 1976, NUCLEAR SPACE RAD EF

[3]

Bruckner R., 1970, Journal of Non-Crystalline Solids, V5, P123, DOI 10.1016/0022-3093(70)90190-0

[4] VISCOUS SHEAR-FLOW MODEL FOR MOS DEVICE RADIATION SENSITIVITY [J].

EERNISSE, EP ;

DERBENWICK, GF .

[5]

EERNISSE EP, 1976, NUCLEAR SPACE RAD EF

[6]

EZZELARAB M, 1968, CR ACAD SCI B PHYS, V266, P92

[7] VISCOUS FLOW IN GLASS-TO-METAL SEALS [J].

HAGY, HE ;

RITLAND, HN .

[8]

Hetherington G, 1962, PHYS CHEM GLASSES-B, V3, P129

[9]

Kennedy J. C., 1964, PHYS CHEM GLASSES-B, V5, P130

[10] RE-EVALUATION OF GLASS VISCOSITIES AT ANNEALING AND STRAIN POINTS [J].

LILLIE, HR .