USE OF MULTIPLE CAVITY LASER HOLOGRAPHIC SYSTEM FOR EBW ANALYSIS

被引:4
作者
LANDRY, MJ [1 ]
MCCARTHY, AE [1 ]
机构
[1] SANDIA LABS, OPTICS DIV, POB 5800, ALBUQUERQUE, NM 87115 USA
关键词
D O I
10.1117/12.7971768
中图分类号
O43 [光学];
学科分类号
070207 ; 0803 ;
摘要
引用
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页数:4
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