ANALYTICAL SOLUTION FOR CAPACITIVE RF SHEATH

被引：512

作者：

LIEBERMAN, MA ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV CALIF BERKELEY,ELECTR RES LAB,BERKELEY,CA 94720

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/27.16552

中图分类号：

O35 [流体力学]; O53 [等离子体物理学];

学科分类号：

070204 ; 080103 ; 080704 ;

摘要：

Plasmas

引用

页码：638 / 644

页数：7

共 15 条

[1]

AKIEZER AI, 1971, SOV PHYS DOKL, V16, P1065

[2]

Fermi E., 1949, PHYS REV, V75, P1169, DOI DOI 10.1103/PHYSREV.75.1169

[3]

Godyak V A, 1976, SOV J PLASMA PHYS, V2, P78

[4]

Godyak V.A., 1979, SOV J PLASMA PHYS, V5, P227

GODYAK, VA ;

OX, SN .

JOURNAL DE PHYSIQUE, 1979, 40 :809-810

[6]

GODYAK VA, 1972, SOV PHYS TECH PHYS-U, V16, P1073

[7]

GODYAK VA, 1980, SOV J PLASMA PHYS, V6, P372

[8]

GODYAK VA, 1986, SOVIET RADIO FREQUEN, P110

[9] ELECTRICAL-PROPERTIES OF RF SPUTTERING SYSTEMS [J].

KELLER, JH ;

PENNEBAKER, WB .

[10] APPLICATION OF RF DISCHARGES TO SPUTTERING [J].

KOENIG, HR ;

MAISSEL, LI .