SADDLE FIELD-ION SOURCE OF SPHERICAL CONFIGURATION FOR ETCHING AND THINNING APPLICATIONS

被引：63
作者：
FRANKS, J
GHANDER, AM
机构：
[1] UNIV ASTON,DEPT PHYS,GOSTA GREEN,BIRMINGHAM B4 7ET,ENGLAND
[2] ION TECH LTD,2 PK ST,TEDDINGTON,MIDDLESEX,ENGLAND
来源：
VACUUM | 1974年 / 24卷 / 10期
关键词：
D O I：
10.1016/0042-207X(74)90015-3
中图分类号：
T [工业技术];
学科分类号：
08 ;
摘要：
引用
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页码：489 / 491
页数：3
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共 2 条
[1]   IMPROVED FORM OF OSCILLATING ELECTRON ELECTROSTATIC ION-SOURCE FOR ION ETCHING [J].
GHANDER, AM ;
FITCH, RK .
VACUUM, 1974, 24 (10) :483-487
[2]   CHARGED-PARTICLE OSCILLATOR [J].
MCILRAIT.AH .
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1972, 9 (01) :209-&
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