ELECTRICAL ENDPOINT DETECTION OF VLSI CONTACT PLASMA-ETCHING

被引：6

作者：

CHANG, G

MCVITTIE, JP

WALKER, JT

DUTTON, RW

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/EDL.1984.26009

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：514 / 517

页数：4

共 15 条

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