HIGHLY CONTROLLED DIFFUSION OF ION-IMPLANTED ARSENIC BY MULTIPLE SCAN ELECTRON-BEAM HEATING

被引：0
作者：
GODFREY, DJ
MCMAHON, RA
AHMED, H
DOWSETT, M
机构：
[1] UNIV CAMBRIDGE,MICROCIRCUIT ENGN LAB,CAMBRIDGE,ENGLAND
[2] CITY LONDON POLYTECH,DEPT PHYS,LONDON EC3N 2EY,ENGLAND
来源：
JOURNAL DE PHYSIQUE | 1983年 / 44卷 / NC-5期
关键词：
D O I：
10.1051/jphyscol:1983536
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共 3 条
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