REDUCTION OF PHOTORESIST STANDING-WAVE EFFECTS BY POST-EXPOSURE BAKE

被引：71

作者：

WALKER, EJ ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HEIGHTS,NY 10598

来源：

IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES | 1975年 / ED22卷 / 07期

关键词：

D O I：

10.1109/T-ED.1975.18162

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

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页码：464 / 466

页数：3

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共 3 条

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