THRESHOLD VOLTAGE FOR DAMAGE IN SI UNDER ELECTRON-BOMBARDMENT

被引：5
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作者：
FRASER, HL
机构：
[1] UNIV ILLINOIS,DEPT MET & MINING ENGN,URBANA,IL 61801
[2] UNIV ILLINOIS,MAT RES LAB,URBANA,IL 61801
来源：
SCRIPTA METALLURGICA | 1977年 / 11卷 / 01期
关键词：
D O I：
10.1016/0036-9748(77)90011-4
中图分类号：
TF [冶金工业];
学科分类号：
0806 ;
摘要：
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页数：3
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