APPLICATION OF ION-BEAM SPUTTERING FOR HIGH-RESOLUTION ELECTRON-MICROSCOPY

被引:0
|
作者
KANAYA, K
BABA, N
HAYANO, F
ADACHI, K
机构
[1] KOGAKUIN UNIV,DEPT ELECTR ENGN,SHINJUKU KU,TOKYO 160,JAPAN
[2] UNIV TOKYO,ENGLISH RES INST,BUNKYO KU,TOKYO 113,JAPAN
来源
JOURNAL OF ELECTRON MICROSCOPY | 1985年 / 34卷 / 03期
关键词
D O I
暂无
中图分类号
TH742 [显微镜];
学科分类号
摘要
引用
收藏
页码:233 / 233
页数:1
相关论文
共 50 条