APPLICATION OF ION-BEAM SPUTTERING FOR HIGH-RESOLUTION ELECTRON-MICROSCOPY

被引：0

作者：

KANAYA, K

BABA, N

HAYANO, F

ADACHI, K

机构：

[1] KOGAKUIN UNIV,DEPT ELECTR ENGN,SHINJUKU KU,TOKYO 160,JAPAN

[2] UNIV TOKYO,ENGLISH RES INST,BUNKYO KU,TOKYO 113,JAPAN

来源：

JOURNAL OF ELECTRON MICROSCOPY | 1985年 / 34卷 / 03期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

TH742 [显微镜];

学科分类号：

摘要：

引用

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