OPTIMUM BEAM ENERGY FOR HIGH DEPTH RESOLUTION SECONDARY-ION MASS-SPECTROMETRY

被引:20
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作者
CLEGG, JB
机构
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1995年 / 13卷 / 01期
关键词
D O I
10.1116/1.579429
中图分类号
TB3 [工程材料学];
学科分类号
0805 ; 080502 ;
摘要
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页数:4
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