CHARACTERISTICS OF ALLOYING KINETICS OF EPITAXIAL SILICON LAYERS IN HYDRIDE PROCESS

被引：0

作者：

SHACHNEV, VI

机构：

来源：

ZHURNAL FIZICHESKOI KHIMII | 1976年 / 50卷 / 05期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];

学科分类号：

070304 ; 081704 ;

摘要：

引用

页码：1269 / 1270

页数：2

共 7 条

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