SUBSTRATE TREATMENT AND FILM DEPOSITION IN IONIZED AND ACTIVATED GAS

被引：23
作者：
HOLLAND, L [1 ]
机构：
[1] UNIV SUSSEX,SCH MATH & PHYS SCI,FALMER,SUSSEX,ENGLAND
来源：
THIN SOLID FILMS | 1975年 / 27卷 / 02期
关键词：
D O I：
10.1016/0040-6090(75)90026-7
中图分类号：
T [工业技术];
学科分类号：
08 ;
摘要：
引用
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页码：185 / 203
页数：19
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共 45 条
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