BROAD-BEAM ELECTRON SOURCE

被引：7

作者：

KAUFMAN, HR

ROBINSON, RS

机构：

[1] COMMONWEALTH SCI CORP,ALEXANDRIA,VA 22314

[2] COLORADO STATE UNIV,DEPT PHYS,FT COLLINS,CO 80523

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1985年 / 3卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1116/1.573377

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：1774 / 1778

页数：5

相关论文

共 4 条

[1]

HAETT AV, 1939, P IRE, V27, P586

[2]

KAUFMAN HR, 1984, APPLICATIONS THEORY, P32

PIERCE, JR .

ROCCA, JJ ;

MEYER, JD ;

FARRELL, MR ;

COLLINS, GJ .